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    中頻磁控濺射鍍膜設備
    產品簡介
    ? 中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜。
    >> 咨詢熱線:13631759325

          中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術,它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象;減弱或消除靶的異?;」夥烹?。因此,提高了濺射過程的工藝穩定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。

          最新研發平面靶,圓柱靶,孿生靶,對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

    真空室尺寸 Ф800×H900mm Ф1100×H1200mm Ф1350×H1250mm Ф1600×H1250mm Ф1900×H1250mm
    制膜種類 多功能金屬膜、復合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等
    電源類型 直流磁控電源、中頻磁控電源電源、高壓離子轟擊電源
    靶類型 直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶、圓柱靶
    真空室結構 立式雙開門、立式單開門
    真空系統 機械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統)
    充氣系統 質量流量控制儀(1-4路)
    極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
    抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3pa小于13分鐘
    工件旋轉方式 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速
    控制方式 手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC
    備注 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做

    該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

    手表 高爾夫 五金 卡托

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